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標題: 台灣新竹科學園光電業發展趋势與策略 [打印本頁]

作者: admin 時間: 2022-10-28 14:52
標題: 台灣新竹科學園光電業發展趋势與策略
1980年12月15日设立的新竹科學工業園區是台灣第一個科學園區，23年来已投入新台幣385亿元，至2004年6月尾止，園區内共设立378家高科技公司，大部門是半导體、计较機、通信、光電等電子財產。颠末多年的尽力，新竹科學工業園區已成為世界上成长乐成的科學園區之一。

　　跟着全世界经济的苏醒，園區的各財產也有大幅的發展。截至2004年6月尾累计入區公司378家，累计實收本錢额新台幣9912亿元，島内資金占92%，外洋資金8%，員工人数為103603人。2003年業務额新台幣8578亿元，發展率22.3%；園區公司今朝股票上市及上柜公司共有90家，此中台灣集成電路、联華電子、旺宏電子及友达等四家公司進军美國市場，在美國上市。

　　新竹地域具有出色的钻研情况，包含临近的台灣清華大學與交通大學，學生总数共两万名，此中對折為钻研生；台灣最首要的財產钻研機構——工業技能钻研院供给近六千名钻研职員，重要的使命包含共同台灣政策成长前瞻性技能，因應業界需求从事利用科技钻研，和协助傳统財產進级，今朝科學園區里有40家以上的公司為工研院的衍生公司。别的園區内另有高速计较機中間、同步辐射钻研中間、太空规划室、紧密仪器成长中間、芯片设计制造中間、及台灣奈米组件實行室。這些大學及钻研機構對付園區的技能研發、在职练習及新創公司之育成有很大的帮忙。

　　本质整洁的从業职員是園區得以敏捷成长的根本，103603名員工中專科以上人力占67%大學以上占43%，均匀春秋32岁，“海归”4340人，由學人介入设立的園區公司有119家，在園區23年成长進程中，“海归”饰演了极其首要的脚色，他們所带回的科學技能與谋划理念在園區渐渐生根茁壮，動員并晋升台灣高科技財產的总體成长。

　　園區厂商2002年共投注新台幣465亿元于钻研成长上，占总業務额5.8%，比照台灣制造業均匀只有1.3%摆布的研發比例，显见園區公司投資研發意愿远高于台灣一般厂商。2002年得到台灣專利批准案件共2688件。在465亿元的钻研成长经费中，以集成電路財產研發经费新台幣304亿元至多，生物技能財產46.3%的研發比例最高。園區钻研职員总计9873人，约占总員工数10%，此中亦以集成電路財產的钻研职員至多，总计5375人。

光電財產成长趋向

　　80年月，计较機外设財產為園區带来光辉的功效，為台灣计较機信息財產奠基了杰出的根本；90年月半导體財產起而代之，動員总體半导體財產成长，延時噴霧,使台灣成為全球晶圆代工王國，同样成為全世界電路设计第二大地域，其垂直分工营运模式带来之经济效益，扭转全世台北按摩小姐,界半导體財產谋划型态。到2004年6月尾入區营运之光電財產，总计60家，實收本錢额到达新台幣1408亿元，員工人数為19416人，92年業務额為943.3亿元，小我均匀出產力则到达新台幣487.6万元；開辟之產物包含第六代大尺寸TFTLCD、高亮度發光二极管、白光發光二极管、雷射二极管、多功效光驱、光贮存媒體及光學读取甲等關头零组件等產物，均属亟需創建之技能；2003年園區光電業產值约占全世界光電財產1.3%，占台灣光電財產之12.6%，可以看出園區光電財產之成长，對台灣光電技能創建與将来成长百家樂預測,，具备举足轻重之影响，光電財產同時同样成為園區继半导體與计较機周邊財產以後之第三大財產。

　　归纳園區光電財產20年来成长，有以下趋向：

1、財產Migration（迁徙）征象

　　光電財產初期人材紧张不足，总體布局不是很健全，產物侧重中下流體系產物。颠末20年的成长，已到达根本布局完备，專業技能职員養成，創建自有技能，新的技能與產物纷繁投入，偏重關头零组件開辟，到达創建完清潔劑,备財產链，上下流整合，技能分散，財產广度與深度晋升之方针。在產物開辟上，由初期之光電质料组件、LED晶粒建造、光學镜片镀膜、光输出與输入装备、光學组件及太阳能電池模块等產物，朝向上遊關头零组件開辟，產物包含LED磊晶量產技能，朝四元高亮度、蓝光、白光、新质料、及光信息與光通信LD磊晶開辟，TFTLCD扩建五G、六G厂量產技能，并開辟低温多晶硅技能、電浆显示器面板技能、有電機激起光二极管等次世代面板技能。在投資型态部門，由初期均匀投資额介于5000万至1亿元間當中小型态公司，成长至均匀本錢额跨越20亿元當中大型公司，發展跨越40倍，光電財產中本錢额100亿以上公司有2家。在技能成长上，则由初期较依靠外商與“海归”創建技能型态，變動為以台灣學研单元及企業自立技能為重要来历，到达技能自立性。

2、園區LED財產成长模式，動員台灣成為世界第二大LED出產地域

　　園區LED財產之技能成长，系由晶粒建造晋升到高亮度磊芯片建造，并迈向长波长通信與信息用LD成长。園區LED財產，启于1983年晶粒制造，由初期以LPE、MOVPE技能，開辟GaAs、GaP等质料，以红光與橘光之晶粒建造為主，中期前進到開辟四元高亮度磊芯片，并持续成熟之红、橘光技能，開辟蓝、绿光產物，近期更朝向氮化镓GaN、硒化锌ZnSe等新质料，蓝、白光產物為主，技能演進不单動員台灣LED財產成长，同時鞭策台灣成為世界第二大LED出產地域，2002年產值為新台幣235亿元，所具有的MOCVD機台数列全世界之冠；同時持续可见光發光二极管履历，踊跃開辟光信息、光通信與醫疗用高功率雷射二极管等，對台灣光贮存財產與光通信財產成长，很有助益。

3、園區TFTLCD財產由2.5代切入，今朝朝向6G及7G趋向成长，2004年大尺寸面板產值将超出韩國，成為世界第一

　　台灣TFTLCD財產成长，始于1992年園區所建的2.5G厂，随後動員台灣总體TFTLCD財產朝向3.5G與5G技能開辟，今朝在因應LCDTV市場需求下，纷繁计划6G厂與7G厂之成长。2003年台灣平面显示器產值為新台幣3154亿元，较2002年發展34.7%，占全世界之18%；此中大尺寸TFTLCD10.4吋以上為2638亿元，世界占据率达34.9%，為全世界第二位。今朝台灣共有6座五G厂量產，计划與兴修中之六G與七G厂有6座，总投資额跨越新台幣5000亿元。2004年第四時，大尺寸TFTLCD全世界占据率将可达44.3%，将超出韩國，成為世界第一。

　　在次世代面板技能開辟上，園區厂商亦纷繁投入開辟低温多晶硅技能LTPSTFTLCD、電浆显示器面板技能PDP、有電機激起光二极管技能OLED等，以把握将来技能開辟之主流。

4、技能来历由依靠外来技能渐渐朝向技能自给自足

　　由園區技能来历阐發，80年月重要以依靠外来技能為主，在光電財產中有61%為外来技能支撑“海归”23%、外商與外洋技能转移38%，台灣學研单元技能转移為39%；但是到90年後期，外来技能比重逐步减轻，由61%降至37%（“海归”17%、外商與外洋技能转移20%），台灣學研单元技能转移提高至46%，同時有17%為團队自行研發技能，可以看出台灣光電技能晋升，學研单元成為技能重要供给者，企業自行研發技能比例增长，已到达自立研發技能方针。

5、財產布局完备，带来群聚效益

　　園區財產，由初期體系產物開辟，迈入關头零组件產制，可谓到达上下流整合，財產布局十分完备。此中又以光驱財產、投影機財產、LED財產、LCD財產等布局最為完备，带来极大之群聚效應。以LCD財產為例，業者在不竭扩厂與開辟次世代面板趋向下，對關头零组件與原质料厂商，產生极大磁吸效應，重要關头零组件包含玻璃基板、彩色滤光片、光罩、偏光板、背光模块、驱動IC、冷阴极管等產物台灣均已有厂商投入開辟，并動員國际各光電大厂纷繁来台设厂，比方Hoya、Corning、ASH、NHT、DNP、Toppan、Unaxis等。

6、關头零组件便宜率逐步提高

　　光電財產在當局政策性教导下，關头零组件便宜率已大幅晋升，以LED財產為例，園區在上遊磊芯片產制已占台灣86%，在LCD財產更因財產布局完备與群聚效應阐扬，動員台灣各项關头零组件開辟，財產構成垂直分工谋划模式，上下流整合趋向成长，關头零组件便宜率亦大幅晋升：彩色滤光片83%、背光模块97%、驱動IC78%、偏光板73%、玻璃基板92%。

財產乐成身分

　　園區光電財產乐成身分，重要在于杰出的投資情况、當局所供给之租税优惠政策、研發嘉奖辦法、台灣充沛與畅通的本錢市場、充沛的高科技人力資本及水電供给等数项：

　　杰出投資情况：包含单一窗口供给完美辦事、當局介入投資、便捷的交通與运输、杰出的光纤信息收集、仓储辦事、電信與電力扶植、醫疗保健與情况庇护等。

　　优惠租税政策：属于首要新兴计谋性產物，可享受五年免税或股东小我投資抵减等租税优惠、入口之呆板、装备、原料、物料等都可免征入口税捐、以產物或劳務外销，其業務税率為零等。

　　研發嘉奖辦法：供给厂商立异技能研發奖助金、研發用度可抵扣所得税、研發装备可享受加快摊提等。

　　台灣充沛與畅通的本錢市場：台灣的創業投資公會具有會員近200家創投公司，共供给新台幣1500亿元之創業基金，供台灣高科技業者所需。另凡属主動化装备、節能装备與污染防治装备等，都可享受低利貸款。

　　充沛的人力資本：除临近地域大學所供给近两万論理學生與钻研生，工業技能钻研院供给近六千名钻研职員外，海归學人达4300人，成熟的治療灰指甲藥,信息電子與半导體財產也供给充分的電子相干范畴專業人士，同時辦理局共同財產必要，踊跃前去海外延揽相干人材外，并供给各種專業培训课程，園區在群聚效應下，已成為台灣最大人力資本库。

将来预测

　　園區光電財產能在近十年時代内，具备暴發力的發展與表示，有赖多年来根本技能的養成，培養關头技能人材，當局踊跃教导政策等，将来園區光電財產成长，将偏重以下各项成长：

　　一增强新兴技能開辟，若有電機激起光极體OLED、低温多晶硅液晶显示器LTPSLCD、可绕式显示面板FlexiblePanel、微碳管CarbonNanoTube等，低落對台灣光電業者之打击。

　　二增强研發优惠機制，协助培训跨范畴科技人材，鼓動勉励企業建立研發同盟，扩展研發之效能。

　　三协助創建財產技能交换平台，供给技能信息交换辦事，举行技能钻研會，协助介入國际规格制订，創建科技人力資本数据库及信息網站等。

　　四連系財產协會資本，协助制订專利权庇护辦法與解决权力金問題。

　　五健全台灣总體投資情况，供给完美根本扶植，加快園區開爆發業，解决用地不足問題，供给充沛之工業用水與不乱電量，并简化行政功课步伐等。

　　六鞭策國际技能交换互助，经過世界知論理學校及科學園區間互助，及科技人材交换互访，建構技能交换機制。

　　七連系台灣紧密機器財產，創建自立化光電装备財產，共同台灣TFTLCD財產對装备之需求，連系台灣根本扎實之紧密機器財產，渐渐切入光電制程装备開辟，以晋升紧密機器財產技能水准。

　　(作者系台灣科學工業園區辦理局副钻研員)

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